美國考夫曼公司中空陰極中和器霍爾離子源 EH 3000HC已成功被應用于應用于直徑 2.2米天文望遠鏡鏡片離子輔助鍍膜工藝 (Ion Beam Assisted Deposition, IBAD). EH 3000HC 離子束具有業(yè)界中最高廣角的涵蓋面積及最高密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝鍍膜中可以獲得高均勻性及高致密性的膜層.

實際案例:

設備: 3米蒸鍍鍍膜機.

基材: 2.2米天文望遠鏡鏡片.

離子源條件: Vb: 120V(離子束陽極電壓), Ib: 14A(離子束陽極電流), O2 gas: 45sccm(氧氣).

圖片:

KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
? 水冷 - 加速冷卻
? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
? 高效的等離子轉換和穩(wěn)定的功率控制

上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國總代理. 美國 KRI 霍爾離子源已廣泛應用于離子輔助鍍膜應用(IBAD), 高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強度及濃度可獲得高質量的膜層拋. KRI 霍爾源系列可依客戶鍍膜機尺寸及基材尺寸及工藝條件選擇相關型號:

KRI End Hall (霍爾離子源) 型號: EH400, EH1000, EH2000, EH3000.

上海伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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