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其系統(tǒng)工作示意圖如下：
該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺等部分組成.
其中雙離子源中的一個離子源適用于濺射靶材, 另個離子源是用于基材的預清洗.
用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數(shù)如下:
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數(shù)：
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portant;">
射頻離子源型號 |
portant;">
RFICP 380 |
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portant;">
Discharge 陽極 |
portant;">
射頻 RFICP |
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portant;">
離子束流 |
portant;">
>1500 mA |
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portant;">
離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
柵極直徑 |
portant;">
30 cm Φ |
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portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦 |
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portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
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portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型壓力 |
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< 0.5m Torr |
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portant;">
長度 |
portant;">
39 cm |
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portant;">
直徑 |
portant;">
59 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推薦理由：
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
用于預清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數(shù):
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離子源型號
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霍爾離子源
eH3000 |
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Cathode/Neutralizer |
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HC |
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電壓 |
portant;">
50-250V |
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portant;">
電流 |
portant;">
20A |
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portant;">
散射角度 |
portant;">
>45 |
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可充其他 |
portant;">
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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portant;">
氣體流量 |
portant;">
5-100sccm |
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portant;">
高度 |
portant;">
6.0“ |
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portant;">
直徑 |
portant;">
9.7“ |
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portant;">
水冷 |
portant;">
可選 |
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 經(jīng)推薦采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術參數(shù)如下：
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進氣法蘭 |
portant;">
氮氣抽速 |
portant;">
極限真空 hpa |
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前級泵 型號 |
portant;">
前級泵抽速 |
portant;">
前級真空 |
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portant;">
DN 40 ISO-KF |
portant;">
35 |
portant;">
< 1X10-7 |
portant;">
Pascal 2021 |
portant;">
18 |
portant;">
AVC 025 MA |
運行結果：
伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
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