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考夫曼射頻離子源 RFICP380成功用于多靶磁控濺射鍍膜機
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KRI考夫曼射頻離子源RFICP220濺射沉積 MoN 薄膜
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考夫曼射頻離子源RFICP220 濺射沉積納米純 Ti 薄膜
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KRI考夫曼射頻離子源RFICP140濺射沉積 BCx 薄膜
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采購訂單編號:No.7947 發布時間:2021-01-27
KRI考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積制備碳薄膜
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考夫曼射頻離子源RFICP140濺射沉積 NSN70 隔熱膜
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考夫曼射頻離子源RFICP380用于鋁表面濺射沉積ZrN薄膜
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